Molekul · SMA · Asam
FH
Hidrogen fluorida
Molekul sangat polar yang membentuk ikatan hidrogen kuat. Larutannya asam lemah tetapi sangat berbahaya karena menembus kulit dan mengikat kalsium tubuh.
Kegunaan
Mengetsa kaca dan cip silikon, serta membuat teflon dan gas pendingin.
Tahukah kamu?
HF mampu melarutkan kaca, sehingga disimpan dalam botol plastik.
Ensiklopedia
Hidrogen fluorida adalah senyawa kimia dengan rumus kimia HF. Senyawa ini merupakan gas atau cairan tidak berwarna dan merupakan sumber utama dari industri fluor, biasanya sebagai larutan encer yang disebut asam fluorida. Maka senyawa ini adalah prekursor banyak senyawa penting seperti obat-obatan dan polimer (misalnya Teflon). HF digunakan secara luas dalam industri petrokimia sebagai komponen superasam. Hidrogen fluorida menguap pada suhu kamar, jauh lebih tinggi dibandingkan hidrogen halida lainnya. Tidak seperti hidrogen halida lain, HF lebih ringan dari udara.
Hidrogen fluorida adalah gas yang sangat berbahaya, bersifat korosif dan menembus asam fluorida ketika kontak dengan uap. Gas ini juga dapat menyebabkan kebutaan dengan merusak kornea mata dengan cepat.
Kimiawan Prancis Edmond Frémy (1814-1894) adalah orang yang menemukan anhidrat hidrogen fluorida ketika mencoba untuk mengisolasi fluor, meskipun Carl Wilhelm Scheele berhasil membuat asam fluorida dalam jumlah besar pada tahun 1771.
Data senyawa
- Rumus molekul
- FH
- Massa molar
- 20,006 g/mol
- Nama IUPAC
- fluorane
- Nama Inggris
- Hydrogen fluoride
- Nomor CAS
- 7664-39-3
- PubChem CID
- 14917
- InChIKey
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N
- SMILES
- F
- Bentuk molekul
- linear
- Muatan
- 0
- Jenjang
- SMA
- Golongan
- Asam, Hidrida & molekul sederhana
- Unsur penyusun
- Fluorin (F), Hidrogen (H)
Pemakaian (PubChem)
- Aqueous hydrofluoric acid is used in stainless steel pickling, glass etching, metal coatings, exotic metal extraction, and quartz purification.
- Used as a catalyst and fluorinating agent; used to etch glass, pickle stainless steel, and control pH in oil well operations; [ACGIH] Used as a wet etchant in semiconductor manufacturing at a standard concentration of 49%; [CSH, p. 46]
- Acid and Alkali Cleaning of Metals [Category: Clean]
- Petroleum Production and Refining [Category: Industry]
- Semiconductor Manufacturing [Category: Industry]